測(cè)量范圍：1.0M to 1×10^-7 M；127000 to 0.01 mg/L（ppm）I^-

溫度范圍：0 to 80 °C；最佳pH范圍：2.0 to 13.0 pH；近似斜率@25oC：-56 mV

單位轉(zhuǎn)換【I^-】：M（mol/L）=1.269 x 10⁵ mg/L（ppm）、mg/L（ppm）=7.88 x 10^-6 M（mol/L）

干擾物：不得存在氰化物和汞，強(qiáng)還原性溶液會(huì)損壞電極，以下離子的濃度比例不準(zhǔn)高于:溴離子（500）、氯離子（500）

適用范圍：水、食品、植物樣品中的游離碘離子濃度，也可作為指示電極用于滴定法

HI4111-11固態(tài)膜碘化物【I^-】ISA離子標(biāo)準(zhǔn)液綜合套裝
該套裝適合固態(tài)膜碘化物【I^-】ISE離子選擇復(fù)合電極處理、校準(zhǔn)、清洗保存，有效保證測(cè)量讀數(shù)準(zhǔn)確性和可靠性。
HI4000-00 專用ISA離子強(qiáng)度調(diào)節(jié)液，規(guī)格：460mL；【測(cè)量前每100mL標(biāo)液和樣品加2mL】
HI4001-01 專用碘化物【I^-】ISE標(biāo)準(zhǔn)液，標(biāo)準(zhǔn)值：0.1M，規(guī)格：460mL
HI7072 定制專用電極填充液，成分：1M KNO₃，規(guī)格：30mL×4

HI4000-70 定制專用離子電極打磨拋光帶，規(guī)格：24個(gè)/組
電極表面發(fā)生劃傷或氧化后可用拋光帶擦亮電極，清除電極膜表面不均勻顆粒污染，避免電極響應(yīng)緩慢、讀數(shù)漂移或重復(fù)性較差現(xiàn)象發(fā)生。
適用于HI4102、HI4103、HI4107、HI4108、HI4109、HI4111、HI4112、HI4115 離子電極膜表面維護(hù)處理

碘化物【I^-】ISE離子選擇復(fù)合電極注意事項(xiàng)

? 濃度低于10^-3M（127ppm）的標(biāo)液需要每天配置；濃度大于1M的樣品需要稀釋候測(cè)量；
    對(duì)于高離子強(qiáng)度的樣品，通過(guò)增加ISA的添加量使標(biāo)液和樣品具有接近的離子強(qiáng)度，或者使用滴定法測(cè)量。
    在稀釋的標(biāo)準(zhǔn)液（小于等于10^-3M）中浸泡電極可以提高電極的響應(yīng)

? 校準(zhǔn)溶液和樣品溶液需要在相同的離子強(qiáng)度條件下測(cè)量，ISA必須同時(shí)以相同體積添加。

    校準(zhǔn)溶液和樣品溶液需要在相同的溫度下測(cè)量；校準(zhǔn)溶液和樣品溶液需要在相同的攪拌條件下測(cè)量，使用磁力攪拌器時(shí)，避免攪拌器傳熱。
    電極斜率不符合要求時(shí)，可將電極浸泡在標(biāo)準(zhǔn)液（小于10^-3M或小于126ppm）中一段時(shí)間可以改善。
    校準(zhǔn)時(shí)建議從低濃度標(biāo)液開始測(cè)量，待數(shù)據(jù)穩(wěn)定后讀數(shù)，濃度越低所需的穩(wěn)定時(shí)間越長(zhǎng)。

? 測(cè)量不同樣品的間隙使用去離子水沖洗電極，輕輕吸干水分以免污染下一個(gè)樣品，注意不要碰到電極膜。

    電極表面發(fā)生劃傷、凹陷或無(wú)光澤可用HI4000-70拋光帶打磨電極；避免溫度的劇烈變化，否則會(huì)損壞電極。

    溫度的變化可能會(huì)使電極內(nèi)部產(chǎn)生氣泡，輕輕拍打電極趕走膜表面的氣泡。
    測(cè)量數(shù)據(jù)不穩(wěn)定時(shí)，檢查電極頭錐形面是否有異物，需要時(shí)清潔電極內(nèi)部并更換填充液

? 使用前撕掉陶瓷結(jié)點(diǎn)表面的封口膜，安裝好電極后添加HI7075填充液，測(cè)量時(shí)將填充口打開。
    填充液會(huì)以緩慢的速度滲出，這是正常的，但是如果滲出速度大于4cm/24h，則需要檢查電極蓋是否擰緊或者電極頭的錐形面有沒有雜物顆粒存在造成縫隙。
    每天測(cè)量前檢查填充液液面，低于填充口2cm以上需要添加填充液。電極內(nèi)部產(chǎn)生結(jié)晶時(shí)需要更換新的填充液。

? 電極短期內(nèi)可保存在稀釋的標(biāo)準(zhǔn)溶液（小于10^-3M）中，長(zhǎng)時(shí)間不使用時(shí)建議拆分電極，沖洗干凈后用封口膜將陶瓷結(jié)點(diǎn)封住，將電極傳感器放在保護(hù)盒中干燥保存。